gather4_po_c (sm5 - asm)

  • 项目

行为与 gather4_po相同，只是对纹素执行比较，类似于 sample_c。

gather4_po_c dest[.mask]， srcAddress[.swizzle]， srcOffset[.swizzle]， srcResource[.swizzle]， srcSampler[.r]， srcReferenceValue
项 说明
dest
 [in]操作结果的地址。
srcAddress
 [in]一组纹理坐标。
srcOffset
 [in]偏移量。
srcResource
 [in]纹理寄存器。
srcSampler
 [in]采样器寄存器。
srcReferenceValue
 [in]选定的单个组件。

备注

有关如何将 srcReferenceValue 与每个提取的纹素进行比较的信息，请参阅sample_c。 与 sample_c不同， gather4_po_c 返回每个比较结果，而不是筛选结果。

与 gather4_po 一样，此指令仅适用于 2D 纹理。 这与 gather4_c 不同，后者也适用于 TextureCubes。

对于具有 float32 分量的格式，如果要提取的值已规范化或 +-INF，则会在未更改的比较操作中使用该值。 NaN 在比较操作中用作 NaN，但 NaN 的确切位表示形式可能会更改。 在比较中，将 Denorms 刷新为零。 对于 TextureCubes，缺失的第 4 个纹素的一些合成必须在角处进行，因此返回合成纹素不变的位的概念不适用。

gather4_po_c 支持的格式与sample_c支持的格式相同。 这些是单组件格式，因此 为 。R on srcSampler，而不是任意重排。

未 绑定资源的gather4_po_c返回 0。

使用此方法筛选阴影贴图。

此指令适用于以下着色器阶段：

顶点 外壳 域 Geometry 像素 计算
X X X X X X

最小着色器模型

以下着色器模型中支持此指令：

着色器模型 支持
着色器模型 5 是
着色器模型 4.1 否
着色器模型 4 否
着色器模型 3 (DirectX HLSL) 否
着色器模型 2 (DirectX HLSL) 否
着色器模型 1 (DirectX HLSL) 否

着色器模型 5 程序集 (DirectX HLSL)