gather4_c （sm5 - asm）

與 gather4 相同，不同之處在于此入侵會在紋素上執行比較，類似于 sample_c 。

gather4_c[_aoffimmi（u，v）] dest[.mask]， srcAddress[.swizzle]， srcResource[.swizzle]， srcSampler[.r]， srcReferenceValue

項目	說明
dest	[in]作業結果的位址
srcAddress	[in]一組紋理座標。
srcResource	[in]紋理暫存器。
srcSampler	[in]取樣器暫存器。
srcReferenceValue	[in]已選取單一元件的暫存器，用於比較。

備註

如需 srcReferenceValue 如何 與每個擷取的紋素進行比較的描述，請參閱 sample_c 。 不同于 sample_c，gather4_c 會傳回每個比較結果，而不是篩選結果。 作業的順序為 srcReferenceValue {ComparisonFunction} texel.R 。

對於 TextureCube 角落，其中有三個真正的紋素，第四個必須合成，合成必須在比較步驟之後發生。 這表示聯結紋素的傳回比較結果可以是 0、0.33、0.66 或 1。 某些實作可能只針對合成紋素傳回 0 或 1。 除了可能的結果清單之外，合成紋素的方法並未指定。

如果是具有 float32 元件的格式，如果所擷取的值已正規化或 +-INF，則會在未觸及的比較作業中使用。 NaN 用於比較作業中做為 NaN，但 NaN 的確切位標記法可能會變更。 反數會排清為零，以進入比較。 對於 TextureCubes，遺漏第 4 個材質的一些合成必須在角落髮生，因此不會套用合成紋素傳回未變更位的概念。

gather4_c 支援 的格式與sample_c 支援 的格式相同。 這些是單一元件格式，因此 為 。srcSampler 上的 R，而不是任意的旋轉。 未系結資源上的gather4_c 會傳回 0。

使用此指示進行自訂陰影對應篩選。

此指示適用于下列著色器階段：

端點	船體	網域	幾何	圖元	計算
X	X	X	X	X	X

最小著色器模型

下列著色器模型中支援此指示：

著色器模型	支援
著色器模型 5	是
著色器模型 4.1	否
著色器模型 4	否
著色器模型 3 （DirectX HLSL）	否
著色器模型 2 （DirectX HLSL）	否
著色器模型 1 （DirectX HLSL）	否

相關主題

著色器模型 5 元件 （DirectX HLSL）